









布置工艺的流程尽可能短,减少交叉往复,、物流走向合理。要配备人员净化室、物料净化室,除配备产品工序要求的用室外,还应配备洁具室、洗衣间、暂存室等,每间用室相互,净化工程的面积应在---基本要求前提下,与生产规模相适应。洁净室中的温湿度控制。洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。排风系统有一般排风系统、有机气体排风系统、酸性气体排风系统、碱性气体排风系统等,净化车间设计时,要根据实际情况选择。
排风系统有一般排风系统、有机气体排风系统、酸性气体排风系统、碱性气体排风系统等,净化车间设计时,要根据实际情况选择。洁净室中的温湿度控制。洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。对不同洁净度等级的洁净室,产生粉尘和有害气体的洁净室,被排介质毒性大的、有易1燃易1爆气体的岗位,应单独设局部排风系统。
排风系统有一般排风系统、有机气体排风系统、酸性气体排风系统、碱性气体排风系统等,净化车间设计时,实验室洁净工程厂家,要根据实际情况选择。直径100um的硅片,温度上升1度,就引起了0。24um线性膨胀,所以必须有±0。1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,---是怕钠的半导体车间,这种车间不宜超过25度。对不同洁净度等级的洁净室,产生粉尘和有害气体的洁净室,被排介质毒性大的、有易1燃易1爆气体的岗位,应单独设局部排风系统。
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