









10级:主要用于带宽小于2微米的半导体工业。其空气净化要求仅次于1级,并且我国半导体技术也在发展之中,在未来对洁净度的要求高。设计合理的空间面积应考虑到设备操作、维修的需要。生产区和储存区应有与生产规模相适应的空间面积,用以安置设备、物料,实验室洁净净化工程,便于操作和维修。现在我们的经济科技在发展,同时带动了社会各行各业在告诉发展中。以净化工程这个行业为例,在目前呈现一片喜人的发展态势。
布置工艺的流程尽可能短,减少交叉往复,、物流走向合理。要配备人员净化室、物料净化室,除配备产品工序要求的用室外,还应配备洁具室、洗衣间、暂存室等,每间用室相互,净化工程的面积应在---基本要求前提下,与生产规模相适应。洁净室中的温湿度控制。洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。排风系统有一般排风系统、有机气体排风系统、酸性气体排风系统、碱性气体排风系统等,净化车间设计时,要根据实际情况选择。
排风系统有一般排风系统、有机气体排风系统、酸性气体排风系统、碱性气体排风系统等,净化车间设计时,要根据实际情况选择。净化工程技术的兴起不过是上个世纪的事情,但今天净化技术发挥着重要作用则是有目共睹的。随着产品向着好的方向发展,对净化车间的依赖度也越来越高。洁净室的构成是由下列各项系统所组成(在所组成的系统分子中是缺一不可的),否则将无法构成一完整且品质---的洁净室。
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